【貸借】 | ||||||
9,321 | 始値 | --- | 年高 | 10,310.0 (24/04/04) | 時価総額 | 4600億円 |
高値 | --- | 年安 | 5,102.0 (23/10/31) | PER | 28.75 | |
--- (---%) | 安値 | --- | 単元株数 | 100 | PBR | 2.32 |
2024/04/25 | 出来高 | ---株 | 平均売買 | 2,278百万円 | 配当利回 | 1.22% |
1ヶ月 | 3ヶ月 | 6ヶ月 |
-4.16% | 30.45% | 70.00% |
52週高値 | 10,310.0 (2024/04/04) |
52週安値 | 5,040.0 (2023/05/15) |
25日 | 75日 | 200日 |
-4.70% | 6.49% | 33.63% |
事業内容 |
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◆真空機器事業=液晶ディスプレイ用スパッタリング装置,有機EL製造装置,巻取式真空蒸着装置,半導体製造用スパッタリング装置,真空ポンプ,計測機器などの開発・製造・販売・保守サービス ◆真空応用事業=スパッタリングターゲット材料,分析機器関連などの真空を応用した製品の開発・製造・販売・保守サービス |
売上構成 |
持ち株比率 |
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地域別売上高 |
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データがありません。
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